阿斯麦、尼康等光刻机巨头的官方账号虽未直接发声，但旗下高管的帖子、行业分析师的解读报告已形成围剿之势。
他们字里行间都在渲染“深蓝半导体技术威胁论”，暗示其光刻机存在“专利侵权”“性能未经验证”等问题。
海外巨头显然是铁了心要将深蓝半导体扼杀在摇篮里，一边切断部件供应，一边发动舆论抹黑，双管齐下试图摧毁市场信任。
不过，此时的舆论还都在网络上，并没有登录正规媒体。
当然，舆论在发酵，被大媒体关注也只是时间问题。
“老一套手法，毫无新意！”楚千澜嗤笑一声，便不再关注。
双方立场不同，争端已经不可避免，但深蓝半导体短时间不可能迈入海外市场，也没有必要与对方争夺海外舆论市场的主导权。
随着时间推移，海外围侥消息顺着科技媒体的报道、行业社群的讨论，迅速蔓延至国内。
第二一早，《半导体芯科技》率先刊发深度分析，标题直指核心《海外巨头联手绞杀！深蓝半导体光刻机遭遇供应链封锁与舆论围剿》。
文中详细梳理了阿斯麦、尼康等企业的隐性施压，以及国外部件供应商的集体断供行为。
不过，文章中没有任何确切证据，只有海外社交媒体的一些论文截图。
即便如此，依旧在国内网络引起不的震动。微博、论坛等平台的相关话题讨论量呈爆炸式增长。
“海外巨头也太狠了！国内刚研发出45纳米光刻机，他们就要联合绞杀，这是怕我们打破垄断啊！”
“这消息是真的还是假的？那文章里的证据着实没有服力，还是等两再看吧！”
“深蓝半导体的供应链不会真出问题吧？国内替代部件能跟上吗？”
“心疼深蓝半导体！自主研发好不容易有了突破，就被这么针对性打压，资本的嘴脸太难看了！”
“之前还以为深蓝半导体研发出45纳米光刻机是炒作，现在看国外巨头的反应，已经可以确定，这消息是真的了！”
……
网络上的讨论愈发热烈，质疑与担忧交织，少数别有用心的水军借机散布“深蓝半导体技术造假”“国产替代必败”的负面言论，试图进一步扰乱市场信心。
就在舆论陷入混沌之际，四家国内企业几乎同时发布公告，引爆全网。
恒川机械在公告中详细披露，其为45纳米光刻机定制的磁悬浮工作台、精密机械臂已完成三轮极限测试，重复定位精度达±0.05微米，完全满足量产要求，首批4套核心部件将于12月25日前交付；
华宇特气则亮出12种半导体核心特种气体的检测报告，纯度均突破99.999%，符合生产45纳米芯片要求，已全面供应深蓝半导体，替代进口材料；
先锋晶圆的8英寸硅片良率已稳定在92%，12英寸硅片研发进入收尾阶段，将按深蓝半导体需求优先级供货，确保芯片产能；
寒星材料更是公布了为极紫外光源定制的特种涂层材料参数，耐高温、抗腐蚀性能较进口产品提升15%，已实现规模化生产，可随时响应订单。
在接下来的半里，又有四十余家国内配套企业密集发声，他们都是获得深蓝半导体订单，为光刻机供应核心部件的厂商。
他们的产品从核心机械部件到特种材料，从光学元件到电子模组，全方位印证了深蓝半导体生产光刻机的底气与事实。
随着国内企业密集发声，如同一场精准的舆论反击战，瞬间扭转网络上的混乱局面。
恒川机械的磁悬浮工作台精度数据、华宇特气的高纯气体检测报告、先锋晶圆的硅片良率数据……一份份详实的证据链，如同重锤般击碎了“技术造假”“国产替代必败”的谣言。
微博上，“深蓝半导体布局国产光刻机供应链”的话题飞速攀升，短短两时便冲上热搜榜首，相关话题阅读量突破1亿。
“太燃了！深蓝半导体为了生产光刻机，竟然同时给四十多家企业下订单！真的无法想象，深蓝半导体是如何研发出光刻机的？”
“恒川机械的±0.05微米定位精度，比国外同类产品还强，已经追平国外先进水准，这技术实力绝了！”
“以前总国产技术不行，现在看看，从核心部件到特种材料，我们也是非常有竞争力的！”
“海外巨头想卡脖子？没门！这么多国内企业兜底，深蓝半导体的光刻机量产稳了！”
“那些散布谣言的水军可以闭嘴了，事实摆在眼前，国产光刻机不是炒作，是实打实的技术突破！”
……
网络舆论彻底沸腾，国内科技圈、制造业从业者纷纷自发声援。
某航领域工程师发帖感慨：“深耕制造业的都懂，±0.05微米的定位精度意味着什么。这背后是精密加工、材料科学、控制算法的全面突破。
深蓝半导体能整合这么多国内企业的顶尖技术，搭建起完整供应链，比光刻机本身更值得骄傲！”
水木大学微电子实验室官微发文：“国产设备的崛起，让科研成本大幅降低，更能让学生接触到自主核心技术，这才是最有价值的传常”
还有网友整理出“国产光刻机供应链图谱”，将恒川机械等四十余家配套企业的技术亮点一一标注，配文“这不是一家企业的胜利，是整个国产制造业的逆袭”，短短半转发量突破10万。
在全民声援的热潮中，深蓝半导体的官方公告终于重磅发布。
公告开篇便直击核心：“近期，部分海外供应商受国际势力施压，无故暂停核心部件供应，企图阻碍国产光刻机研发进程。但我们早已布局全国产化替代方案，目前所有关键部件均已实现国内自主供应，45纳米光刻机量产不受任何影响。”
公告详细披露了45纳米光刻产线的核心参数：“整机核心部件国产化率92%，极紫外光源、磁悬浮工作台等关键模块性能对标国际先进水准。”
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